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超凈硅片表面化學清洗工藝的優化研究

本文檔由 Thincreat 分享于2011-01-29 17:49

第17卷第5期 1996年5月 ? ? tt ^ & CHINESE JOURNAL OF SEMICONDUCTORS Vol. 17,No. 5 May,1996 超凈硅片表面化學清洗工藝的優化研究 葉志鎮姜小波袁駿李劍光 (浙江大學硅材料國家重點實驗室杭州3100，，) 擱要本文采用正交試驗設計法優化硅片化學 ...
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